《集成电路设计基础1-5》复习题2006 联系客服

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**************《集成电路设计基础》复习题(2006)*************** 1.按原理、工艺、结构、实现方法、用途的不同,集成电路主要有哪些分类?全定制IC设计一般分哪几个步骤?

2.双极型IC的制造工艺与平面管的制造工艺主要区别是什么?一个集成NPN管的四层三结结构是指什么?

3.NPN管的有源PNP管寄生效应是怎样产生的?为消除集成NPN管的有源PNP管寄生效应,工艺和电路上主要措施是什么?

4.计算二管、五管、ECL单元空载时的导通功耗和截止功耗。ECL单元的功耗电阻参数计算。 5.什么是MOSIC的“场区寄生MOSFET”?其产生的条件和消除其影响的主要方法是什么? 6.为降低NPN晶体管寄生集电极串联电阻RCS,在其版图和工艺设计上主要可采取那些相应措施? 7.什么是CMOS电路“闸流”效应?分析在CMOSIC的测试应用过程中可采取哪些措施防止“闸流”效应的产生。

8.基区硼扩散电阻的计算公式(P53的3.3式),其最小条宽设计主要受那些因素制约?实际选取的原则是什么?能进行简单扩散电阻图形设计(特别是P54中介绍的PA,max与WR,max设计之间的关系),如:电阻值R=10k?,方块电阻RS=100?/□,允许最大耗散功率PA,max=10W/cm2,该电阻上的最大压降为2V,不考虑修正因素,设计一个基区扩散电阻条宽度W和长度L。 9.在双极和硅栅MOSIC中,实现(交叉)互连的技术和方法主要有哪些?

10. 单元IC的主要静态特性参数有哪几个?其动态特性参数和综合特性参数是什么?能针对反相器单元,给出其简单的定义和描述。

11. 能定性地画出典型双极TTL单元、ECL单元线路图并分析其静态工作原理。

12. 五管单元TTL与非门的电压传输特性曲线的线性区是如何形成的?其对器件的噪容特性有什么影响?

13. 在五管和六管单元TTL与非门的设计中,一般要求fT2 >fT5,试从动态特性要求的角度加以解释。 14. 请说明五管单元TTL与非门导通瞬态和截止瞬态对电阻R3参数的矛盾要求。六管单元TTL与非门是采用什么方法来缓解这一矛盾的?

15. 六管单元TTL与非门较之五管单元TTL与非门在噪音容限、VOL的稳定性以及速度三个方面有何改进?为什么?

16. 图示说明为什么普通具有“图腾柱”输出结构的TTL与非门之间不能“线与”。OC门和三态门

电路各有什么优缺点?

17. SBD的主要特点是什么? 它是如何提高STTLIC速度的(SCT的基本原理)?六管STTL与非门的多射极输入管T1之BC结加SBD嵌位有哪双重目的?

18. 中,大规模TTLIC主要包括哪几部分?其各部分电路的重点要求表现在哪里?

19. 采用单管禁止门,串级与非门、MOS(静、动态)反相器等单元,以各种方式连接构成的扩展逻辑线路的功能分析(包括逻辑表达式,各局部电路的结构功能特点)

20. 解决单管逻辑门级联时低电平逐级抬高问题主要有那些相应的方法(针对性)?

21. ECL单元电路采用射随器输出结构的主要作用是什么?ECL电路实现高速度的主要原因是什么?

《集成电路设计基础》补充复习题(第6、7章)

1.有比MOS反相器” 和“无比MOS反相器”的主要特点是什么?

2.βR 对饱和型E/E MOS反相器传输特性和VOL特性有何影响,请推倒并说明之。 3.会画出并分析饱和E/E MOS CMOS反相器产生下降时间的等效电路和工作轨迹,推 倒下降时间tf的计算公式。分析分析饱和E/E MOS和上升时间tr,其上升过程为什么会有拖长长的尾巴现象?

4.E/D MOS倒相器静态特性的主要特点是什么?请给予解释。

5.图示“指定噪容”和“最大噪容”的定义。判断一个倒相器传输特性好坏的三个标准是什么?

6.CMOSIC最主要的优点有那些? 对CMOS反相器,设计时如果取β0=1,αn=αp=α,则对电路的静态性能、动态性能和集成性能的影响如何?

7.请结合图示,分析MOS管的栅电容的电荷存储效应。简单动态MOS反相器工作过程分析。

8.MOS、COMS静、动态反相器、与非门、或非门、传输门单元基础上构成的相应扩展逻辑电路的结构功能分析。

9.不同结构的门电路的下降时间tf和上升时间tr与标准CMOS反相器下降时间tf和上

升时间tr的关系,并能推导。

10.级间比值对级联门速度的影响分析;能推导出级间比值为多少时为最优。 11.驱动大电容负载时应采取什么方法,并能解释说明。

12.对多于4个输入端的门电路应采用什么方法进行改进,说明理由。 13.影响门电路电气特性及物理结构设计的因素。 14.画出CMOS反相器的截面图和俯视图。